В пособии рассмотрены особенности обработки материалов и полупроводниковых структур лазерными и некогерентными источниками излучения: используемое оборудование, виды источников излучения, их применение для контроля технологических процессов изготовления микроструктур, получения графеновых пленок, изготовления суперконденсаторов, матричных острийных структур, супергидрофобных и супергидрофильных поверхностей. Учебное пособие может быть использовано при подготовке магистров по направлениям 28.04....